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“SD凹印对印技术”获国家技术发明一等奖

更新时间:2021-08-23  作者:admin

 

  本报讯 日前,2010年度国家科学技术奖励大会在北京人民大会堂隆重召开。党和国家领导人出席大会并为获奖代表颁奖。“SD凹印对印技术”等两项成果获得了国家技术发明一等奖。

  据了解,国家技术发明一等奖等级很高,建国以来获奖项目很少,“SD凹印对印技术”获得这一奖项,是党和国家对印制科技的高度肯定。

  人民银行副行长马德伦等领导对获奖表示祝贺。奖励大会后,中国印钞造币总公司总经理贺林、获奖代表马仁选等向马德伦进行了专题汇报。

  马德伦指出,印制行业能获得分量如此重的国家级奖励很不容易,它是中国印钞造币总公司多年来在科研方面探索和努力的结果,此次的突破是技术和设备的同时进步,为这一领域科技的进一步发展奠定了基础。同时,这一技术不仅让我国的钞票印制技术成为了国际领跑者,更重要的是,获得国家技术发明奖对我们科技自主创新方面的努力是一个非常大的肯定。

  马德伦希望中国印钞造币总公司继续努力,研制出更多更好的防伪技术。(牛娟娟)

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