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IBM310足球专家推荐首次突破32nm限制 应用平版印刷

更新时间:2021-08-13  作者:admin

 

  据国外媒体报道,IBM在近期内将会给大家展示他们的新成果,即IBM已经突破应用于光学平板印刷的制造芯片方面的技术,达到了32nm。310足球专家推荐现在,大多的制作技术还不能够在32nm的微上进行蚀刻。但是IBM克服了这一困难,可以以29.9nm的宽度进行蚀刻,完成了193nm纵深紫外线(DUV)光学平版印刷术的开发。

  IBM的博士RobertDAllen表示,310足球专家推荐IBM阿尔马登的研究中心的平版印刷术相关的管理人,我们的目标是不断的推进光学平版印刷技术,让其发展到一个顶峰,直到不能再继续,然后往其它的方向发展。这次研究的成功证明了,莫尔定律在芯片制造方面至少还有7年的发展空间。

  现在大多的处理器的采用的还是90nm技术,英特尔刚开始步入65nm台阶。

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