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日本凸版印刷与IBM合作研发45纳米芯片用光罩

更新时间:2021-08-07  作者:admin

 

  据路透东京电,日本经济新闻周四报道,日本凸版印刷和IBM已合作从事光罩的研发。光罩是生产微芯片时所使用的玻璃板。

  该报指出,这两家公司将在2007年前投入200亿日元(1.869亿美元),研发下一代45纳米芯片用光罩。

  凸版印刷在4月以710亿日元收购DuPont Photomasks后,成为全球最大光罩厂商。该报指出,凸版印刷将于2007年中之前,投入100亿日元,在日本兴建一座工厂。

  排名第二的大日本印刷则已与美国芯片公司英特尔合作,研发45纳米芯片用光罩。

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